9月23日，A股光刻机（胶）概念拉升最新股票配资，波长光电、张江高科、凯美特气、华软科技涨停。
消息面上，第25届中国国际工业博览会开幕式上，首批上海市中试平台示范名单发布，包括光刻胶及原材料中试平台、新型储能测试基地（应用示范电站）中试平台、面向航发领域的高端机床装备中试平台和人形机器人中试平台。这意味着上海在推动科技成果转化、促进产业升级方面迈出了重要一步，对于提升上海乃至全国的科技创新能力和产业竞争力具有重要意义。
为科技成果产业化架“桥梁”
2024年，工业和信息化部、国家发展改革委联合印发《制造业中试创新发展实施意见》，强调要遵循产业发展规律，创新发展中试产业，促进中试与创新链、产业链同步发展。上海紧跟步伐，2025年5月，上海市经信委、上海市教委、上海市科委联合印发了《上海市中试平台创新发展实施方案》。为更好地落实制造业中试平台政策，针对重点关键领域，上海率先布局一批示范性中试平台。
中试是打通实验室创新成果向产业化应用的 “最后一公里”。此次发布的首批4家中试平台示范名单，涵盖光刻胶及原材料、新型储能测试基地、航发领域高端机床装备和人形机器人四大关键领域，为这些领域的科技成果产业化架起了“桥梁”，有助于加快新技术、新产品从原理验证到小批量试制再到稳定量产的进程。
其中，光刻胶是半导体制造等领域的关键材料，其性能直接影响芯片的制造精度和质量。中试可以对实验室研发的光刻胶配方和工艺进行验证和优化，确保其在实际生产中的可行性和稳定性，加速光刻胶的产业化进程。
例如，八亿时空的高柔性研发中试线就是专为配合国内光刻胶厂商及科研机构“小量多品种” 的研发迭代和中试验证需求而设计，是加速国产光刻胶新品开发、缩短从实验室到产业化进程的“孵化器”和“加速器”。
实际上，近年来，国内在光刻胶中试方面取得了不少成果。例如，今年9月，无锡启动了“无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线”，这是全国首个掌握MOR型光刻胶核心原材料、配方及应用技术的创新平台，其研发生产的光刻胶将直接对标世界一流水准，填补国内在 EUV 光刻胶领域的空白。
此外，浙江玟昕科技有限公司的光刻胶及其树脂合成和配套湿电子化学品中试项目已完成中试生产，中试生产出的树脂完全满足华为、京东方等客户需求并达到国外进口产品的同等性能。
多家企业推进进程
对于行业而言，光刻胶中试不仅有助于加强光刻胶企业与光刻机制造商、晶圆厂等产业链上下游企业的合作，促进产业链协同发展，共同推动半导体产业的进步，还可使得国内技术代际差距快速收窄，有助于打破国外垄断，加速光刻胶的国产化进程。
对于企业而言，中试可以在小规模生产环境下对光刻胶的研发成果进行验证，提前发现和解决技术问题，降低企业大规模产业化生产的风险，提高研发成功率。
更为重要的是，光刻胶中试的进展和成果可以吸引投资者的关注和资金支持，为企业的发展提供资金保障。
目前，已有多个企业已经或即将进行中试。
南大光电的国内首条25吨ArF光刻胶生产线已建成，并完成ASML浸没式光刻机等核心设备的国产化适配。2025年规划建设50吨EUV光刻胶中试线，其承担的国家02专项EUV光刻胶项目已进入中试阶段。
晶瑞电材是国内唯一同时拥有g线 /i线、KrF光刻胶并进行ArF光刻胶中试的企业，也是国内最早规模量产光刻胶的几家企业之一。其KrF光刻胶通过中芯国际验证，用于成熟制程（55nm以上）。
圣泉集团于2025年第一季度建成8英寸晶圆PS - PI（光敏聚酰亚胺）中试线，规划产能5000吨/年。近期完成KrF光刻胶用PHS树脂的中试，部分产品已通过客户验证，实现KrF成膜树脂的关键性突破。
鼎材科技承担的安徽省发改委“高性能光刻胶产品开发及产业化项目” 通过验收。项目围绕TFT - LCD和AMOLED面板企业需求开展，通过中试和放大工艺研究，建立健全了光刻胶品质管控体系。
飞凯材料半导体用KrF光刻胶完成中试，公司在显示光刻胶领域市占率超30%，成功实现TFT - LCD正性光刻胶的国产替代，良品率达到国际水平。
瑞联新材的一款EUV级别的光刻胶单体中试批次已经通过客户验证，且已有百公斤级的产量。此外，其LC显示光刻胶树脂及单体中试放大方案的研究已完成一个单体中试放大最新股票配资，并通过终端客户验证使用，反馈良好。
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